PECHINO (CINA) (XINHUA/ITALPRESS) – Questa foto, scattata il 21 gennaio 2026, mostra un campione di condensatore ferroelettrico in attesa di essere testato in un laboratorio dell’Istituto di fisica dell’Accademia cinese delle scienze a Pechino, capitale della Cina. I ricercatori cinesi hanno recentemente compiuto un’importante scoperta nei materiali ferroelettrici, che promette di aumentare drasticamente la densità di archiviazione delle informazioni. Il team di ricerca dell’istituto ha identificato con successo pareti di dominio cariche unidimensionali all’interno di un materiale ferroelettrico con struttura a fluorite. Queste pareti sono sottili, con sia spessore che larghezza pari a poche centinaia di millesimi del diametro di un capello umano. Questa scoperta, in particolare, fornisce una base scientifica per lo sviluppo di dispositivi di nuova generazione ad altissima densità. I risultati sono stati pubblicati venerdì sulla rivista “Science”.
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